Инспекционные микроскопы

Nikon Eclipse L200N, L200ND

Инспекционные микроскопы Nikon ECLIPSE L200N/L200ND

Инспекционные микроскопы Nikon ECLIPSE L200N/L200ND предназначены для изучения и контроля качества интегральных схем. Предшественниками моделей Nikon Eclipse L200N/L200ND являются микроскопы Nikon Eclipse L200/L200D. L200N - Изучение полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм при эпископическом освещении. L200ND - Изучение полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм при эпископическом и диаскопическом освещении.

Nikon Eclipse L300N, L300ND

Инспекционные микроскопы Nikon ECLIPSE L300N/L300ND

Инспекционные микроскопы Nikon ECLIPSE L300N/L300ND предназначены для изучения и контроля качества интегральных схем. Предшественниками моделей Nikon Eclipse L300N/L300ND являются микроскопы Nikon Eclipse L300/L300D. L300N - Изучение полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм при эпископическом освещении L300ND - Изучение полупроводниковых пластин диаметром до 300 мм при эпископическом и диаскопическом освещении.

Nikon ECLIPSE LV150N / LV150NL / LV150NA

Микроскоп падающего света Nikon ECLIPSE LV150N

Модульная конструкция микроскопов серии Eclipse LV-N делает их универсальными с применением в различных отраслях. Устройства Eclipse LV-N могут использоваться для исследования самых разных образцов и в самых разных сферах применения - от разработки и контроля качества до осуществления технологического контроля в процессе производства.

Nikon ECLIPSE LV100ND

Микроскоп проходящего и падающего света Nikon ECLIPSE LV100ND

Модульная конструкция микроскопа Nikon Eclipse LV100ND с ручным управлением для работы при эпископическом/диаскопическом освещении, позволяет управлять сменой объективов и интенсивностью освещения с помощью блока управления камерой DS-L3 и автоматически распознает метод наблюдения.

Инспекционные микроскопы Nikon предназначены для изучения поверхности полупроводниковых пластин, печатных плат и электронных компонентов. Объектив расположен над поверхностью образца. Поэтому важнейшим параметром является рабочее расстояние объектива, позволяющее изучать элементы, расположенные на разной высоте. Для наблюдения мелких деталей и незначительных различий используется метод темного поля, позволяющий регистрировать только свет, рассеянный образцом.