Объективы для промышленных микроскопов
Качество оптики Nikon известно миру с 1917 года. Каждый объектив Nikon подвергается тщательному контролю на всех этапах производства.
Передние линзы объективов имеют очень маленький размер и характерную форму. Линзы делаются из стекла в соответствие со строгими стандартами.
Высококвалифицированный специалист должен подшлифовать линзу вручную, чтобы добиться высочайшего качества исполнения. В компании Nikon существуют специалисты с высочайшими навыками в области обработки оптических элементов.
В 1976 году компания Nikon анонсировала выпуск объективов серии CF (оптика, свободная от хроматических аберраций).
В 1996 году при разработке новой серии объективов CFI60 (оптика, настроенная на «бесконечность», свободная от хроматических аберраций), предназначенных для выполнения сложных биологических исследований, специалисты компании Nikon ставили перед собой две четкие задачи:
1. Кардинальным образом усовершенствовать оптические характеристики.
2. Повысить универсальность микроскопа в целом и улучшить его характеристики при использовании дополнительного специализированного оборудования.
При создании объективов серии CFI60 компания Nikon установила новые стандарты. Применение в тубусе линз с фокусным расстоянием 200 мм и объективов с парфокальным расстоянием 60 мм при увеличении диаметра резьбы до 25 мм позволило увеличить числовую апертуру и рабочее расстояние до недостижимых ранее величин. Эти революционные оптические системы осуществляют коррекцию продольной и поперечной хроматической аберрации за счет объектива и линзы тубуса, что позволяет получить плоские изображения с превосходной цветопередачей без использования каких-либо других элементов. Тубусная линза с фокусным расстоянием 200 мм уменьшает угол между лучами света, проходящими через центр, и внеосевыми лучами. Это максимально сокращает смещение между двумя лучами света при их прохождении через флуоресцентный фильтровый куб и призму ДИК. Компания Nikon также разработала объективы, которые снижают автофлуоресценцию и блики, и тем самым, обеспечивают большую контрастность при эпифлуоресцентной микроскопии. Оптическая система CFI60 обладает целым рядом инновационных свойств и обеспечивает превосходные эксплуатационные характеристики.
Оптическая система Nikon CFI60, которая ценится за высокие числовые апертуры NA объективов в сочетании с большими рабочими расстояниями WD, была улучшена в системе Nikon CFI60-2 для достижения еще больших рабочих расстояний, лучшей коррекции хроматических аберраций и меньшего веса.
Серия CFI60-2 TU Plan Fluor характеризуется улучшенным коэффициентом пропускания излучения в ультрафиолетовом диапазоне. Данные линзы объективов подходят для разных задач, связанных с исследованиями, анализом и контролем, и в то же время обладают высокой числовой апертурой и большим рабочим расстоянием – особенностями, характерными для линз компании Nikon. При помощи всего одной линзы можно осуществлять наблюдение методом светлого поля, тёмного поля, простой поляризации, дифференциального интерференционного контраста и УФ-эпифлуоресценции. Эти объективы просты в использовании и обеспечивают высокое разрешение, их можно использовать в сочетании не только с микроскопами, но также и с другим оборудованием, что еще расширяет сферу их применения.
Объективы серии TU Plan Fluor можно использовать для наблюдений с эпископическим или диаскопическим освещением. Объективы TU Plan Fluor EPI предназначены для работы в светлом поле. Для метода темного поля могут использоваться только объективы TU Plan Fluor BD. Также возможно получения использование метода ДИК при диаскопическом освещении. Данные объективы используются без покровного стекла.
| Объектив | Числовая апертура NA | Рабочий отрезок WD, мм |
| CFI TU Plan Fluor EPI 5x | 0.15 | 23.50 |
| CFI TU Plan Fluor EPI 10x | 0.30 | 17.50 |
| CFI TU Plan Fluor EPI 20x | 0.45 | 4.50 |
| CFI TU Plan Fluor EPI 50x | 0.80 | 1.00 |
| CFI TU Plan Fluor EPI 100x | 0.90 | 1.00 |
| CFI TU Plan Fluor BD 5x | 0.15 | 18.00 |
| CFI TU Plan Fluor BD 10x | 0.30 | 15.00 |
| CFI TU Plan Fluor BD 20x | 0.45 | 4.50 |
| CFI TU Plan Fluor BD 50x | 0.80 | 1.00 |
| CFI TU Plan Fluor BD 100x | 0.90 | 1.00 |
CFI TU Plan EPI P - это объективы без внутренних напряжений, которые были созданы для методик, предполагающих количественное пропускание и отражение поляризованного света. Используются без покровного стекла.
CFI TU Plan Fluor EPI P для эпископического освещения
CFI P Achromat – это объективы без внутренних напряжений, которые были созданы для методик, предполагающих количественное пропускание поляризованного света. Они используются с покровным стеклом.
CFI TU P Achromat для диаскопического освещения
| Объектив | Числовая апертура NA | Рабочий отрезок WD, мм | Толщина покровного стекла, мм |
| CFI P Achromat 4x | 0.10 | 30.00 | - |
| CFI P Achromat 10x | 0.25 | 7.00 | - |
| CFI P Achromat LWD 20x | 0.40 | 3.90 | 0.17 |
| CFI P Achromat 40x | 0.65 | 0.65 | 0.17 |
| CFI P Achromat 100x oil | 1.25 | 0.23 | 0.17 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 5x | 0.15 | 23.50 | - |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 10x | 0.30 | 17.50 | 0 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 20x | 0.45 | 4.50 | 0 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 50x | 0.80 | 1.00 | 0 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 100x | 0.90 | 1.00 | 0 |
Поляризационные объективы Nikon не вносят собственной поляризующей компоненты, поэтому могут использоваться для точного определения степени анизотропности образца.
Серия CFI60 T Plan EPI включает объективы с малым увеличением, которые снабжены встроенным вращаемым деполяризатором и круговой поляризационной пластинкой для подавления бликов, которые возникают при наблюдении образцов с малой отражательной способностью, что является специфичным для объективов с малым увеличением. Эта конструкция позволяет получить более четкие изображения и улучшить контраст.
Пластинка может быть извлечена из оптического пути.
Образец из резины (CFI T Plan EPI 1X):
Без поляризатора
С деполяризатором
С поляризатором
Объектив CFI L Plan EPI 40X специально предназначен для анализа структуры металлов. Это особенно востребовано при использовании инвертированных металлографических микроскопов.
Объективы серии CFI Plan EPI предназначены для работы в светлом поле.
| Объектив | Числовая апертура NA | Рабочий отрезок WD, мм |
| CFI T Plan EPI 1X | 0,03 | 3,80 |
| CFI T Plan EPI 2.5X | 0,075 | 6,50 |
| CFI L Plan EPI 2.5X | 0,075 | 8,80 |
| CFI L Plan EPI 40X | 0,65 | 1,00 |
Объективы серии CFI TU Plan ELWD обладают большими рабочими отрезками наряду с коррекцией хроматических аберраций высших порядков. Это обеспечивает комфортную работу с разновысотными образцами.
Благодаря использованию фазовых линз Френеля коррекция хроматических аберраций возможна даже при малых расстояниях между линзами, что позволяет получить большие величины рабочих отрезков, чем при использовании обычных линз.
| Объектив | Числовая апертура NA | Рабочий отрезок WD, мм |
| CFI TU Plan EPI ELWD 20x | 0.40 | 19.00 |
| CFI TU Plan EPI ELWD 50x | 0.60 | 11.00 |
| CFI TU Plan EPI ELWD 100x | 0.80 | 4.50 |
| CFI TU Plan BD ELWD 20x | 0.40 | 19.00 |
| CFI TU Plan BD ELWD 50x | 0.60 | 11.00 |
| CFI TU Plan BD ELWD 100x | 0.80 | 4.50 |
Объективы TU Plan EPI ELWD предназначены для работы в светлом поле. Для метода темного поля могут использоваться только объективы TU Plan BD ELWD.
Объективы серии CFI T Plan EPI SLWD обладают сверхдлинными рабочими отрезками наряду с коррекцией хроматических аберраций высших порядков. Это обеспечивает легкость при манипуляциях с образцами. К серии добавлен объектив 10х.
Благодаря использованию фазовых линз Френеля коррекция хроматических аберраций возможна даже при малых расстояниях между линзами, что позволяет получить большие величины рабочих отрезков, чем при использовании обычных линз.
| Объектив | Числовая апертура NA | Рабочий отрезок WD, мм |
| CFI T Plan EPI SLWD 10x | 0.20 | 37.00 |
| CFI T Plan EPI SLWD 20x | 0.30 | 30.00 |
| CFI T Plan EPI SLWD 50x | 0.40 | 22.00 |
| CFI T Plan EPI SLWD 100x | 0.60 | 10.00 |
Объективы T Plan EPI SLWD предназначены для работы в светлом поле.
Благодаря большому рабочему расстоянию длиннофокусные объективы оптимально подходят для высоких образцов, особенно в сочетании с прямыми инспекционными микроскопами.
Объективы серии CFI TU Plan Apo обладают большими рабочими отрезками наряду с апохроматической коррекцией аберраций.
Благодаря использованию фазовых линз Френеля коррекция хроматических аберраций возможна даже при малых расстояниях между линзами, что позволяет получить большие величины рабочих отрезков, чем при использовании обычных линз. К серии добавлен объектив 50х.
| Объектив | Числовая апертура NA | Рабочий отрезок WD, мм |
| CFI TU Plan Apo EPI 50x | 0.80 | 2.00 |
| CFI TU Plan Apo EPI 100x | 0.90 | 2.00 |
| CFI TU Plan Apo EPI 150x | 0.90 | 1.50 |
| CFI TU Plan Apo BD 50x | 0.80 | 2.00 |
| CFI TU Plan Apo BD 100x | 0.90 | 2.00 |
| CFI TU Plan Apo BD 150x | 0.90 | 1.50 |
Объективы TU Plan Apo EPI предназначены для работы в светлом поле. Для метода темного поля могут использоваться только объективы TU Plan Apo BD.
Серия CFI60 L Plan EPI CR включает объективы с корректирующим кольцом, которые обеспечивают возможность наблюдения ЖК-дисплеев с более тонким защитным стеклом и схем с высокой степенью интеграции и плотным расположением элементов. Значение поправки на толщину защитного стекла может плавно варьироваться от 0 до 1,2 мм.
Без коррекции (50Х)
С коррекцией 0.7 мм (50Х)
Линза объектива с увеличением 100х имеет высокую числовую апертуру 0,85 и позволяет получать высококонтрастные изображения матриц и шаблонов, исключая влияние защитного стекла. В зависимости от толщины стекла (диапазон коррекции 0-0,7 мм и 0,6-1,3 мм) существуют два вида линз 100х.
Объективы серии CFI Plan EPI CR предназначены для работы в светлом поле.
| Объектив | Числовая апертура NA | Рабочий отрезок WD, мм | Толщина покровного стекла, мм |
| CFI L Plan EPI CR 20X | 0,45 | 10,9-10,0 | 0-1,2мм |
| CFI L Plan EPI CR 50X | 0,7 | 3,9-3,0 | 0-1,2мм |
| CFI L Plan EPI CRA 100X | 0,85 | 1,2-0,85 | 0-0,7мм |
| CFI L Plan EPI CRB 100X | 0,85 | 1,3-0,95 | 0,6-1,3мм |
Объективы серии CF IC EPI Plan позволяют наблюдать интерференционную картину и проводить точные измерения высоты бесконтактным методом.
Объективы CF IC EPI Plan TI предназначены для интерференции по схеме Майкельсона, а объективы CF IC EPI Plan DI – для двулучевой интерференции по схеме Миро.
| Объектив | Числовая апертура NA | Рабочий отрезок WD, мм |
| CF IC EPI Plan TI 2.5xA | 0.075 | 10.30 |
| CF IC EPI Plan TI 5xA | 0.13 | 9.30 |
| CF IC EPI Plan DI 10xA | 0.30 | 7.40 |
| CF IC EPI Plan DI 20xA | 0.40 | 4.70 |
| CF IC EPI Plan DI 50xA | 0.55 | 3.40 |
| CF IC EPI Plan DI 100x | 0.70 | 2.00 |
Объективы для ближней инфракрасной области CFI NIR обладают высоким пропусканием более 90% в видимом диапазоне и на длине волны 1064 нм. Возможно применение для лазерной обработки полупроводников и дисплеев LCD.
Разрушение линзы из-за поглощения лазерного излучения сведено к минимуму, что обеспечивает высокую надежность объектива.
| Объектив | Числовая апертура NA | Рабочий отрезок WD, мм | Длина волны, нм | Парфокальное расстояние, мм | Толщина покровного стекла, мм |
| CFI LR Plan Apo NIR 20X | 0.40 | 25.00 | 1064/532 | 95 | - |
| CFI LR Plan Apo NIR 50X | 0.42 | 20.00 | 1064/532 | 95 | - |
| CFI LR Plan Apo NIR-C 20X | 0.40 | 24.00 | 1064/532 | 95 | 0,3-1,1 |
| CFI LR Plan Apo NIR-C 50X | 0.42 | 19.00 | 1064/532 | 95 | 0,3-1,1 |