(495) 223-40-00 | systems@tokyo-boeki.ru
- Сверхбольшой диапазон перемещения позволяет производить измерение подложек для дисплеев LCD, панелей FPD и габаритных печатных плат PCB
- Высокоскоростной столик и обработка изображения обеспечивают высокую пропускную способность
- Лазерная автофокусировка позволяет производить анализ поперечных сечений и деформаций в заготовках
- Широкий выбор осветителей обеспечивает точное определение границы раздела
- Функция интеллектуального поиска облегчает измерение выступов и впадин на печатных платах
Стандартная головка с 15-кратным высокоскоростным зумом
Стандартная головка включает в себя 5-ступенчатое 15-кратное высокоскоростное масштабирование, обеспечивающее большую гибкость при выборе коэффициентов увеличения в зависимости от размера измеряемой области.
- Благодаря широкому выбору вариантов освещения обеспечивается точное обнаружение кромок прессованных деталей.
- 3 модели (тип: 1, 2, 3) с 5-ступенчатым масштабированием для наблюдения при разных разрешениях и полях зрения.
- Большое рабочее расстояние 50 мм позволяет производить измерение поверхностей со значительными перепадами высот.
- Высокая числовая апертура 0.35 обеспечивает широкое поле зрения.
- 15-кратное масштабирование позволяет реализовать быстрый поиск и детальное увеличение области интереса, благодаря чему обеспечивается высокая точность измерений. Точная калибровка при разных коэффициентах увеличения позволяет производить быстрое измерение нескольких параметров в одном поле зрения.
- Лазерная автофокусировка позволяет производить анализ поперечных сечений и оценку плоскостности, а также трёхмерный замер профиля поверхности.
Корпуса полупроводниковых приборов, подложки, печатные платы, штампованные детали, разъёмы, детали, полученные литьём под давлением, часовые механизмы.
Сопоставление коэффициента увеличения с полем зрения (мм)Уровень масштабирования | ||||
1 | 2 | 3 | 4 | 5 |
Тип 1 | ||||
Оптическое увеличение | ||||
0,5x | 1x | 2x | 4x | 7,5x |
Общее увеличение | ||||
18x | 36x | 72x | 144x | 270x |
Поле зрения (мм) | ||||
9.33 x 7 | 4,67 x 3,5 | 2,33 x 1,75 | 1,165 x 0,875 | 0,622 x 0,467 |
Тип 2 | ||||
Оптическое увеличение | ||||
1x | 2x | 4x | 8x | 15x |
Общее увеличение | ||||
36x | 72x | 144x | 288x | 540x |
Поле зрения (мм) | ||||
4,67 x 3,5 | 2,33 x 1,75 | 1,165 x 0,875 | 0,582 x 0,437 | 0,311 x 0,233 |
Тип 3 | ||||
Оптическое увеличение | ||||
2x | 4x | 8x | 16x | 30x |
Общее увеличение | ||||
72x | 144x | 288x | 576x | 1080x |
Поле зрения (мм) | ||||
2,33 x 1,75 | 1,165 x 0,875 | 0,582 x 0,437 | 0,291 x 0,218 | 0,155 x 0,117 |
Приведённые коэффициенты увеличения соответствуют изображению на 24-дюймовом WUXGA-мониторе с установленным разрешением SXGA (640 х 480 пикселей).
1X
2X
4X
8X
15X
Линза объектива с высокой степенью коррекции эквивалентна линзам, которые применяются в самых дорогих моделях микроскопов Nikon. Указанные линзы имеют высокую числовую апертуру, равную 0,35, а также большое рабочее расстояние, составляющее 50 мм при любом увеличении.
Усовершенствованная лазерная автофокусировка через объективЛазерная автофокусировка через объектив обеспечивает высокое разрешение, большое рабочее расстояние и высокую скорость, благодаря чему позволяет производить идеальную фокусировку в узкой области при незначительных увеличениях.
Высокоскоростное измерение посредством сканирования может производиться со скоростью до 1000 точек в секунду, что позволяет осуществлять высокоточные измерения по оси Z при решении ряда измерительных задач.
Также с помощью данной системы автофокусировки можно обнаружить верхнюю и нижнюю поверхности прозрачного слоя для измерения толщины прозрачного слоя или глубину до поверхности слоя, следующего за прозрачным слоем.
Благодаря внедрению нового алгоритма и применению ПЗС-камеры с прогрессивной развёрткой, были повышены скорость и точность системы Vision AF, характеристики которой теперь приближаются к характеристикам системы лазерной автофокусировки через объектив. Система Vision AF удобна в тех случаях, когда нельзя использовать лазерную автофокусировку через объектив, например, при необходимости фокусировки на закруглённых кромках или кромках с фасками.
Система Multiple-Vision AF позволяет производить одновременное измерение в нескольких точках в пределах одного поля зрения, расположенных на разной высоте.
Фокусировка на поверхности
Фокусировка на границе
Светодиодные источники света в настоящее время почти полностью заменили галогеновые лампы. Светодиоды имеют стабильно высокую цветовую температуру, которая не меняется с интенсивностью. Это обеспечивает более натуральные цвета в изображениях и короткое время измерений.
Меню управления освещением:
1. Управление интенсивностью диаскопического и эпископического света
2. Автоматическая настройка интенсивности диаскопического и эпископического источников
3. Управление светом кольцевых источников: угол и направление
4. Вращение направления света
5. Управление интенсивностью кольцевых источников
Специально для серии VMR была разработана система освещения, состоящая из внутреннего и внешнего кольцевых осветителей.
Благодаря тому, что в данной системе произвольным образом комбинируется освещение, поступающее с восьми разных сторон, стало возможным наблюдение кромок с чрезвычайно низким контрастом, которые при эпископическом освещении, как правило, незаметны. Такое решение наилучшим образом подходит для подчёркивания контуров контактных площадок, штырьков, керамических корпусов и других аналогичных деталей.
Внутренний кольцевой осветитель(37° к оптической оси)Данный тип осветителя является универсальным и может применяться тогда, когда необходимо яркое освещение с разных сторон. При данной модели освещения сохраняется полное рабочее расстояние, равное 50 мм.
Внешний кольцевой осветитель(75° к оптической оси)Данный тип осветителя позволяет осуществлять наблюдение деталей, которые не могут быть измерены при падении света под малым углом. Когда в осветителе нет необходимости, он убирается, оставляя больше пространства над деталью. При использовании данного осветителя рабочее расстояние составляет 10 мм.
Новый модуль VMR-Z120X обеспечивает диапазон увеличения от 1х до 120Х благодаря применению двух объективов и изменению оптического пути. 8-ступенчатое масштабирование позволяет системе производить быстрые измерения сотен различных параметров и важные измерения линий шириной от 1 мкм при неизменном поле зрения.
Модуль максимального увеличения позволяет осуществлять измерение деталей с высокоточной обработкой. Идеально подходит для измерения деталей MEMS, печатных плат с высокой плотностью расположения элементов и корпусов полупроводниковых приборов.
- Модуль максимального увеличения в сочетании с высокоточным предметным столиком позволяет производить точное измерение как крупных деталей, так и миниатюрных структур
- Система лазерной автофокусировки осуществляет фокусировку относительно точки малого размера, чтобы обеспечить высокую точность измерения поперечных сечений и высоты мелких деталей
- Программное обеспечение для анализа поверхности, поставляемое в качестве опции, позволяет отображать формы деталей MEMS в трёхмерном представлении
Печатные платы, микросборки, подложки, Корпуса (2D + высота), детали MEMS
Две линзы объектива – широкое поле зрения и большая оптическая силаСочетание двух линз объектива позволяет применять модуль для решения самых различных задач: от наблюдений в широком поле зрения при незначительном увеличении до точных измерений при высоком коэффициенте увеличения. Числовая апертура составляет 0,55.
Основная (правая) линза обеспечивает диапазон увеличений 16-120Х для измерения мельчайших структур шириной до 1 мкм, дополнительная (левая) – от 1Х до 7.5Х для поиска объектов измерения.
Оптическое увеличение | 1x | 2x | 4x | 7,5x |
Общее увеличение | 36x | 72x | 144x | 270x |
Поле зрения (мм) | 4,67 х 3,5 | 2,33 х 1,75 | 1,165 х 0,875 | 0,622 х 0,467 |
Оптическое увеличение | 16x | 32x | 64x | 120x |
Общее увеличение | 576x | 1146x | 2292x | 4320x |
Поле зрения (мм) | 0,291 x 0,218 | 0,146 x 0,109 | 0,073 x 0,055 | 0,039 x 0,029 |
Приведённые коэффициенты увеличения соответствуют изображению на 24-дюймовом WUXGA-мониторе с установленным разрешением SXGA (640 х 480 пикселей).
1X
2X
4X
7.5X
16X
32X
64X
120Х (ширина линии 6 мкм)
Основной объектив оснащён встроенной системой лазерной автофокусировки. Высокая числовая апертура значительно повышает эффективность фокусировки и сканирования тонких, прозрачных/полупрозрачных (например, защитные покрытия) поверхностей или отражающих поверхностей неправильной формы. Высокоскоростное измерение посредством сканирования может производиться со скоростью до 1000 точек в секунду, что позволяет осуществлять высокоточные измерения по оси Z при решении ряда измерительных задач.
Принцип работы автоматической лазерной фокусировки через объектив: Три типа осветителейДанный модуль обеспечивает наилучшее освещение любой детали благодаря тому, что позволяет использовать три возможных варианта освещения с программным управлением – эпископическое, диаскопическое (основной объектив) и освещение по методу тёмного поля. Это обеспечивает высокую точность обнаружения кромок.
Эпископическое освещение
Освещение по методу тёмного поля
Оптическая система CFI60-2
Знаменитая оптика Nikon CFI60-2 без внутренних напряжений обеспечивает чёткие, высококонтрастные изображения, поэтому данная система лучше всего подходит для наблюдения подложек ЖК-дисплеев большого размера и светофильтров. Система позволяет производить как наблюдение детали, так и измерение её размеров с применением технологий обработки изображений. С помощью призмы высокого дифференциально-интерференционного контраста можно также получать изображения с улучшенным контрастом.
Универсальная моторизованная револьверная головка
Моторизованная револьверная головка с программным управлением позволяет менять увеличение в ходе выполнения обучающей программы. Это позволяет производить наблюдение при наилучшем увеличении и с оптимально подобранным объективом.
Автоматическое управление – от измерений до обработки данных
Управление всеми функциями системы осуществляется посредством простого в использовании программного обеспечения. Процесс измерения автоматизирован – от управления несколькими источниками света до обработки данных и перемещений столика. Это позволяет обеспечить стабильность и точность результатов измерений.
Широкий выбор объективов серии CFI60-2
Оптическая система CFI60 позволяет получать яркие, высококонтрастные изображения за счёт минимизации бликов, при этом она имеет более высокие числовые апертуры и увеличенное рабочее расстояние.
Линзы объектива CFI60-2 | Увеличение | Числовая апертура | Рабочее расстояние (мм) |
TU Plan Fluor BD | 5X | 0.15 | 18.00 |
10X | 0.30 | 15.00 | |
20X | 0.45 | 4.50 | |
50X | 0.80 | 1.00 | |
100X | 0.90 | 1.00 | |
TU Plan BD ELWD | 20X | 0.40 | 19.00 |
50X | 0.60 | 11.00 | |
100X | 0.80 | 4.50 | |
L Plan Epi | 2.5X | 0.075 | 8.80 |
T Plan Epi | 1X | 0.03 | 4.00 |
2.5X | 0.075 | 6.50 | |
TU Plan Fluor Epi | 5X | 0.15 | 23.50 |
10X | 0.30 | 17.50 | |
20X | 0.45 | 4.50 | |
50X | 0.80 | 1.00 | |
100X | 0.90 | 1.00 | |
TU Plan Epi ELWD | 20X | 0.40 | 19.00 |
50X | 0.60 | 11.00 | |
100X | 0.80 | 4.50 | |
T Plan Epi SLWD | 10X | 0.20 | 37.00 |
20X | 0.30 | 30.00 | |
50X | 0.40 | 22.00 | |
100X | 0.60 | 10.00 | |
TU Plan Apo BD | 50X | 0.80 | 2.00 |
100X | 0.90 | 2.00 | |
150X | 0.90 | 1.50 | |
TU Plan Apo Epi | 50X | 0.80 | 2.00 |
100X | 0.90 | 2.00 | |
150X | 0.90 | 1.50 |
Линзы объектива CFI60-2 | Числовая апертура | Диапазон поправки на толщину стекла | Рабочее расстояние (t = толщина стекла (мм)) |
L Plan Epi 20x CR | 0.45 | От 0 до 1,2 мм | 10,9 мм при t=0 10,5 мм при t=0,6 10,0 мм при t=1,2 |
L Plan Epi 50x CR | 0.7 | От 0 до 1,2 мм | 3,9 мм при t=0 3,4 мм при t=0,6 3,0 мм при t=1,2 |
L Plan Epi 100x CRA | 0.85 | От 0 до 0,7 мм | 1,20 мм при t=0 1,05 мм при t=0.3 0,85 мм при t=0,7 |
L Plan Epi 100x CRB | 0.85 | От 0,6 до 1,3 мм | 1,3 мм при t=0,6 1,15 мм при t=0,9 0,95 мм при t=1,3 |
Эффект от применения объективов для ЖК-панелей
При наблюдении через стекло с помощью специальных объективов с коррекцией на толщину стеклянной подложки можно получить чёткое изображение рисунка.
С объективом Plan EPI
С объективом для ЖК-панелей
Изображение по методу ДИК Номарского
Микроскопия по методу дифференциального-интерференционного контраста позволяет визуализировать незначительные перепады высоты в виде чётких, контрастных изображений.
Изображение в тёмном поле
Микроскопия методом тёмного поля эффективна при необходимости обнаружения мелких частиц и царапин на поверхности.
Области применения
Полупроводниковые пластины, LCD размером до 150 мм
Программное обеспечение NEXIV VMR AutoMeasure обновлено и имеет теперь новый графический интерфейс, благодаря которому можно из основного окна создавать или запускать обучающие файлы, регулировать освещение, проверять результаты или проводить калибровку.
С помощью различных утилит можно легко записать обучающий файл в короткий срок.
Новый интерфейс может быть настроен под задачи заказчика.
Новые функции для прецизионных автоматических измерений Выбор точки и границы разделаМожно заранее установить правила определения кромки из числа вариантов и отфильтровать неверные, чтобы избежать неправильных точек и минимизировать ошибки.
Функция интеллектуального поискаМожно сохранить изображения в обучающем файле, чтобы позволить системе искать их.
С данной функцией смещенные образцы будут найдены и измерены без ошибок.
Система обнаружит детали с неверной ориентацией и повернет изображение до совпадения.
Можно выбрать из трех уровней интенсивности Низкий, Средний и Высокий для коаксиального, верхнего и нижнего света с помощью всего одной из трех кнопок.
Программа интерфейса CAD в режиме подключения к сетиОператор может импортировать данные из САПР (CAD) для конкретной детали (в формате IGES, DXF, Gerber или Excellon) и отобразить её в окне графического представления данных CAD в программной оболочке NEXIV VMR AutoMeasure. Это повышает эффективность обучения и экономит рабочее время.
- Оператор может переместить столик в требуемое положение двойным щелчком мыши в нужном месте на обследуемой детали.
- Данная функция позволяет автоматически создать файл программы обучения на основании данных CAD в программной оболочке NEXIV VMR AutoMeasure.
Программа NEXIV Virtual AutoMeasure позволяет считывать данные CAD в окно виртуального видеопространства на отдельном компьютере, предоставляя оператору возможность работы с программой обучения системы NEXIV с применением таких же рабочих процедур, как и на компьютере, подключённом к сети. Это избавляет от необходимости использовать реальную деталь при составлении обучающих программ и позволяет системе NEXIV сосредоточиться на автоматических измерениях для повышения производительности.
- Поддерживает файлы форматов IGES, DXF, DMIS, NC, Gerber и Excellon.
- Окно виртуального видеопространства позволяет оператору выбрать необходимое поле зрения на основании данных CAD.
- Применяются такие же рабочие процедуры, как и в программе NEXIV AutoMeasure.
- Программирование в ручном режиме или автоматически, одним щелчком мыши.
- Возможно сочетание программ с использованием макроступеней, таких как измерение ширины линии и поиск по нескольким шаблонам.
Данная программа позволяет осуществлять измерение и анализ двумерных профилей детали, которые не могут быть измерены в режиме нормального геометрического измерения. Теперь, благодаря применению метода сравнения таблиц данных, возможно выполнение более точных количественных измерений с использованием профильных проекторов и/или традиционных измерительных микроскопов.
Оценка контуров
Номинальные и измеренные контуры можно наложить, и ошибки сразу станут заметны.
Функция лучшего совпадения сдвигает и доворачивает измеренные контуры до номинальных для минимизации ошибок.
Редактирование импортированных данных CAD-файлов
Изменение допусков, направлений элементов, размера может быть сделано в программе NEXIV Profiler.
Расчет погрешностей может быть проведен в направлении нормали или в осевом направлении.
Номинальные контуры могут быть созданы либо из CAD-файлов, либо из значений координат XYZ.
Измеренные контуры могут быть выведены в CSV или DXF файле.
Отчет может быть выполнен в формате PDF файла.
Используя программный модуль NEXIV CAD Reader чертежи с номинальными размерами могут быть вызваны из файлов формата DXF/IGES.
NEXIV ReportОтчеты могут содержать результаты измерений и графики. Можно выбрать, какие результаты и графики нужно отобразить, и сменить слои. После того как отчет впервые создан, он может автоматически создаваться каждый раз при запуске программы.
Дополнительные программные продукты Программное обеспечение для анализа поверхности по ISO/ASME/JIS MountainsMap X (Digital Surf, Франция)MountainsMap X – мощная программа для метрологического анализа поверхностей. Она обладает богатым функционалом 3D визуализации, поперечного вида, 2D и 3D шероховатостей и других параметров по стандарту ISO.
EDF/Stitching ExpressПрограммное обеспечение может объединять изображения в XY плоскости, чтобы в итоге получить изображение большого поля зрения, а также изображения на разной высоте вдоль оси Z, чтобы получить изображение с расширенной глубиной фокуса (EDF). На основании этих данных может создать 3D графики.
Изображение EDF
3D график
«Сшитое» изображение с EDF
Поперечное сечение
Перемещение по XYZ | Тип 1, 2, 3 и 4 | 1200×720×150 мм |
Тип Z120X с объективом высокого увеличения | 1200×720×150 мм | |
Тип Z120X с объективом малого увеличения | 1150×720×150 мм | |
Тип LU | 1200×720×150 мм | |
Минимальный шаг считывания | 0.1 мкм | |
Максимальные вес образца | 40 кг | |
Точность (L: длина в мм) | U1X, U1Y | 2.2+4L/1000 мкм |
U2XY | 3.2+4L/1000 мкм | |
Точность по оси Z (с лазерным автофокусом) | 1.5+L/150 мкм | |
Камера | Черно-белая ПЗС 1/3”, цветная ПЗС 1/3” (опция) Черно-белая ПЗС 1/3” с прогрессивным сканированием, цветная ПЗС 1/3” (опция) |
|
Рабочее расстояние объектива | Тип 1, 2 и 3 | 50 мм при угле освещения 37°, 10 мм при угле освещения 75° |
Тип Z120X | 9.8 мм для объектива большого увеличения и 32 мм для объектива малого увеличения | |
Тип TZ | 11 мм для основного объектива и 32 мм для дополнительного объектива | |
Тип LU | В зависимости от используемого объектива | |
Увеличение и поле зрения | Тип 1 | 0.5 ~ 7.5× / 9.33×7 ~ 0.622×0.467 мм |
Тип 2 | 1 ~ 15× / 4.67×3.5 ~ 0.311×0.233 мм | |
Тип 3 | 2 ~ 30× / 2.33×1.75 ~ 0.155×0.117 мм | |
Тип Z120X | 1 ~ 120× / 4.67×3.5 ~ 0.039×0.029 мм | |
Тип LU | В зависимости от используемого объектива | |
Автофокус | Тип 1, 2, 3 и Z120X оборудованы лазерной автофокусировкой через объектив и визуальной автофокусировкой. Тип LU оборудован только визуальной автофокусировкой |
|
Осветители | Тип 1, 2 и 3 | Светодиодный эпископический и диаскопический осветители 8-сегментный светодиодный кольцевой осветитель (внутренний кольцевой осветитель с углом освещения 37° и внешний кольцевой осветитель с углом освещения 75°) |
Тип Z120X | Светодиодный эпископический и темнопольный осветители для объективов большого и малого увеличения Светодиодный диаскопический осветитель только для объектива большого увеличения | |
Тип LU | Светодиодный эпископический и диаскопический осветители Темнопольный осветитель |
|
Требования к питающей сети | AC 100-240В±10% 50 или 60 Гц | |
Потребление по току | 13A (стандарт), 15A (Z120X) | |
Размеры и вес | Основной блок и стол | 1734×2200×1750 мм около 1500 кг |
Блок управления | 250×550×500 мм/31 кг | |
Система, включая компьютер на столе | 3000×2500 мм |