TOKYO BOEKI - официальный дистрибьютор Nikon на территории России и в других странах СНГ
ОПТИЧЕСКИЕ МИКРОСКОПЫ И СИСТЕМЫ ИЗМЕРЕНИЯ
Телефон:
+7-495-223-4000
E-mail:
main@tokyo-boeki-ea.com

Видеоизмерительная система со сверхвысоким разрешением Nikon NEXIV VMZ-H3030

Свяжитесь со специалистом удобным для Вас способом:
(495) 223-40-00 | systems@tokyo-boeki.ru
Модель микроскопа Nikon NEXIV VMZ-H3030 с величиной хода столика 300 х 300 х 150 мм. Платформа позволяет производить высокоточные измерения небольших деталей, например, фотошаблонов, MEMS, корпусов деталей, микросборок, подложек, полупроводниковых пластин, прессованных и штампованных деталей
  • Благодаря гибкости и сверхвысокой точности модель Nikon NEXIV VMZ-H3030 может стать основным инструментом в измерительной лаборатории. За счет оптимального сочетания стеклянных шкал с низким коэффициентом теплового расширения и аппаратных решений микроскоп позволяет достичь субмикронного уровня точности.
  • Высокоскоростная лазерная автофокусировка позволяет производить анализ поперечных сечений и оценку плоскостности, а также трёхмерный замер профиля поверхности пресс-форм и штамповок.
  • Широкий выбор осветителей обеспечивает точное определение границы раздела
Оптические головки типов 1, 2, 3

Стандартная головка с 15-кратным высокоскоростным зумом
Стандартная головка включает в себя 5-ступенчатое 15-кратное высокоскоростное масштабирование, обеспечивающее большую гибкость при выборе коэффициентов увеличения в зависимости от размера измеряемой области.

  • Благодаря широкому выбору вариантов освещения обеспечивается точное обнаружение кромок прессованных деталей.
  • 3 модели (тип: 1, 2, 3) с 5-ступенчатым масштабированием для наблюдения при разных разрешениях и полях зрения.
  • Большое рабочее расстояние 50 мм позволяет производить измерение поверхностей со значительными перепадами высот.
  • Высокая числовая апертура 0.35 обеспечивает широкое поле зрения.
  • 15-кратное масштабирование позволяет реализовать быстрый поиск и детальное увеличение области интереса, благодаря чему обеспечивается высокая точность измерений. Точная калибровка при разных коэффициентах увеличения позволяет производить быстрое измерение нескольких параметров в одном поле зрения.
  • Лазерная автофокусировка позволяет производить анализ поперечных сечений и оценку плоскостности, а также трёхмерный замер профиля поверхности.
Области применения

Фотошаблоны для подложек дисплеев LCD

Сопоставление коэффициента увеличения с полем зрения (мм)
Уровень масштабирования
1 2 3 4 5
Тип 1
Оптическое увеличение
0,5x 1x 2x 4x 7,5x
Общее увеличение
18x 36x 72x 144x 270x
Поле зрения (мм)
9.33 x 7 4,67 x 3,5 2,33 x 1,75 1,165 x 0,875 0,622 x 0,467
Тип 2
Оптическое увеличение
1x 2x 4x 8x 15x
Общее увеличение
36x 72x 144x 288x 540x
Поле зрения (мм)
4,67 x 3,5 2,33 x 1,75 1,165 x 0,875 0,582 x 0,437 0,311 x 0,233
Тип 3
Оптическое увеличение
2x 4x 8x 16x 30x
Общее увеличение
72x 144x 288x 576x 1080x
Поле зрения (мм)
2,33 x 1,75 1,165 x 0,875 0,582 x 0,437 0,291 x 0,218 0,155 x 0,117

Приведённые коэффициенты увеличения соответствуют изображению на 24-дюймовом WUXGA-мониторе с установленным разрешением SXGA (640 х 480 пикселей).


1X

2X

4X

8X

15X
Линза объектива с широким полем зрения и высокой числовой апертурой

Линза объектива с высокой степенью коррекции эквивалентна линзам, которые применяются в самых дорогих моделях микроскопов Nikon. Указанные линзы имеют высокую числовую апертуру, равную 0,35, а также большое рабочее расстояние, составляющее 50 мм при любом увеличении.

Усовершенствованная лазерная автофокусировка через объектив

Лазерная автофокусировка через объектив обеспечивает высокое разрешение, большое рабочее расстояние и высокую скорость, благодаря чему позволяет производить идеальную фокусировку в узкой области при незначительных увеличениях.
Высокоскоростное измерение посредством сканирования может производиться со скоростью до 1000 точек в секунду, что позволяет осуществлять высокоточные измерения по оси Z при решении ряда измерительных задач. Также с помощью данной системы автофокусировки можно обнаружить верхнюю и нижнюю поверхности прозрачного слоя для измерения толщины прозрачного слоя или глубину до поверхности слоя, следующего за прозрачным слоем.

Принцип работы автоматической лазерной фокусировки через объектив Высокоскоростная и высокоточная автофокусировка Vision AF

Благодаря внедрению нового алгоритма и применению ПЗС-камеры с прогрессивной развёрткой, были повышены скорость и точность системы Vision AF, характеристики которой теперь приближаются к характеристикам системы лазерной автофокусировки через объектив. Система Vision AF удобна в тех случаях, когда нельзя использовать лазерную автофокусировку через объектив, например, при необходимости фокусировки на закруглённых кромках или кромках с фасками.

Система Multiple-Vision AF позволяет производить одновременное измерение в нескольких точках в пределах одного поля зрения, расположенных на разной высоте.


Фокусировка на поверхности

Фокусировка на границе
Универсальное освещение для обнаружения кромок

Светодиодные источники света в настоящее время почти полностью заменили галогеновые лампы. Светодиоды имеют стабильно высокую цветовую температуру, которая не меняется с интенсивностью. Это обеспечивает более натуральные цвета в изображениях и короткое время измерений.

Меню управления освещением:
1. Управление интенсивностью диаскопического и эпископического света
2. Автоматическая настройка интенсивности диаскопического и эпископического источников
3. Управление светом кольцевых источников: угол и направление
4. Вращение направления света
5. Управление интенсивностью кольцевых источников

8-сегментный кольцевой светодиодный осветитель

Специально для серии VMR была разработана система освещения, состоящая из внутреннего и внешнего кольцевых осветителей.

Благодаря тому, что в данной системе произвольным образом комбинируется освещение, поступающее с восьми разных сторон, стало возможным наблюдение кромок с чрезвычайно низким контрастом, которые при эпископическом освещении, как правило, незаметны. Такое решение наилучшим образом подходит для подчёркивания контуров контактных площадок, штырьков, керамических корпусов и других аналогичных деталей.

Внутренний кольцевой осветитель(37° к оптической оси)

Данный тип осветителя является универсальным и может применяться тогда, когда необходимо яркое освещение с разных сторон. При данной модели освещения сохраняется полное рабочее расстояние, равное 50 мм.

Внешний кольцевой осветитель(75° к оптической оси)

Данный тип осветителя позволяет осуществлять наблюдение деталей, которые не могут быть измерены при падении света под малым углом. Когда в осветителе нет необходимости, он убирается, оставляя больше пространства над деталью. При использовании данного осветителя рабочее расстояние составляет 10 мм.

Новый модуль VMR-Z120X обеспечивает диапазон увеличения от 1х до 120Х благодаря применению двух объективов и изменению оптического пути. 8-ступенчатое масштабирование позволяет системе производить быстрые измерения сотен различных параметров и важные измерения линий шириной от 1 мкм при неизменном поле зрения.

Модуль максимального увеличения позволяет осуществлять измерение деталей с высокоточной обработкой. Идеально подходит для измерения деталей MEMS, печатных плат с высокой плотностью расположения элементов и корпусов полупроводниковых приборов.

  • Модуль максимального увеличения в сочетании с высокоточным предметным столиком позволяет производить точное измерение как крупных деталей, так и миниатюрных структур
  • Система лазерной автофокусировки осуществляет фокусировку относительно точки малого размера, чтобы обеспечить высокую точность измерения поперечных сечений и высоты мелких деталей
  • Программное обеспечение для анализа поверхности, поставляемое в качестве опции, позволяет отображать формы деталей MEMS в трёхмерном представлении
Области применения

Печатные платы, микросборки, подложки, Корпуса (2D + высота), детали MEMS

Две линзы объектива – широкое поле зрения и большая оптическая сила

Сочетание двух линз объектива позволяет применять модуль для решения самых различных задач: от наблюдений в широком поле зрения при незначительном увеличении до точных измерений при высоком коэффициенте увеличения. Числовая апертура составляет 0,55.
Основная (правая) линза обеспечивает диапазон увеличений 16-120Х для измерения мельчайших структур шириной до 1 мкм, дополнительная (левая) – от 1Х до 7.5Х для поиска объектов измерения.

Сопоставление коэффициента увеличения с полем зрения (мм)
Оптическое увеличение 1x 2x 4x 7,5x
Общее увеличение 36x 72x 144x 270x
Поле зрения (мм) 4,67 х 3,5 2,33 х 1,75 1,165 х 0,875 0,622 х 0,467
         
Оптическое увеличение 16x 32x 64x 120x
Общее увеличение 576x 1146x 2292x 4320x
Поле зрения (мм) 0,291 x 0,218 0,146 x 0,109 0,073 x 0,055 0,039 x 0,029

Приведённые коэффициенты увеличения соответствуют изображению на 24-дюймовом WUXGA-мониторе с установленным разрешением SXGA (640 х 480 пикселей).


1X

2X

4X

7.5X

16X

32X

64X

120Х (ширина линии 6 мкм)
Лазерная автофокусировка через объектив с высоким разрешением и ультрамалым лазерным пятном

Основной объектив оснащён встроенной системой лазерной автофокусировки. Высокая числовая апертура значительно повышает эффективность фокусировки и сканирования тонких, прозрачных/полупрозрачных (например, защитные покрытия) поверхностей или отражающих поверхностей неправильной формы. Высокоскоростное измерение посредством сканирования может производиться со скоростью до 1000 точек в секунду, что позволяет осуществлять высокоточные измерения по оси Z при решении ряда измерительных задач.

Принцип работы автоматической лазерной фокусировки через объектив: Три типа осветителей

Данный модуль обеспечивает наилучшее освещение любой детали благодаря тому, что позволяет использовать три возможных варианта освещения с программным управлением – эпископическое, диаскопическое (основной объектив) и освещение по методу тёмного поля. Это обеспечивает высокую точность обнаружения кромок.


Эпископическое освещение

Освещение по методу тёмного поля
Головка LU с универсальным эпископическим осветителем/моторизованным револьвером

Оптическая система CFI60-2
Знаменитая оптика Nikon CFI60-2 без внутренних напряжений обеспечивает чёткие, высококонтрастные изображения, поэтому данная система лучше всего подходит для наблюдения подложек ЖК-дисплеев большого размера и светофильтров. Система позволяет производить как наблюдение детали, так и измерение её размеров с применением технологий обработки изображений. С помощью призмы высокого дифференциально-интерференционного контраста можно также получать изображения с улучшенным контрастом.

Универсальная моторизованная револьверная головка
Моторизованная револьверная головка с программным управлением позволяет менять увеличение в ходе выполнения обучающей программы. Это позволяет производить наблюдение при наилучшем увеличении и с оптимально подобранным объективом.

Автоматическое управление – от измерений до обработки данных
Управление всеми функциями системы осуществляется посредством простого в использовании программного обеспечения. Процесс измерения автоматизирован – от управления несколькими источниками света до обработки данных и перемещений столика. Это позволяет обеспечить стабильность и точность результатов измерений.

Широкий выбор объективов серии CFI60-2
Оптическая система CFI60 позволяет получать яркие, высококонтрастные изображения за счёт минимизации бликов, при этом она имеет более высокие числовые апертуры и увеличенное рабочее расстояние.

Линзы объектива CFI60-2 Увеличение Числовая апертура Рабочее расстояние (мм)
TU Plan Fluor BD 5X 0.15 18.00
10X 0.30 15.00
20X 0.45 4.50
50X 0.80 1.00
100X 0.90 1.00
TU Plan BD ELWD 20X 0.40 19.00
50X 0.60 11.00
100X 0.80 4.50
L Plan Epi 2.5X 0.075 8.80
T Plan Epi 1X 0.03 4.00
2.5X 0.075 6.50
TU Plan Fluor Epi 5X 0.15 23.50
10X 0.30 17.50
20X 0.45 4.50
50X 0.80 1.00
100X 0.90 1.00
TU Plan Epi ELWD 20X 0.40 19.00
50X 0.60 11.00
100X 0.80 4.50
T Plan Epi SLWD 10X 0.20 37.00
20X 0.30 30.00
50X 0.40 22.00
100X 0.60 10.00
TU Plan Apo BD 50X 0.80 2.00
100X 0.90 2.00
150X 0.90 1.50
TU Plan Apo Epi 50X 0.80 2.00
100X 0.90 2.00
150X 0.90 1.50
Объективы Nikon для ЖК-панелей
Линзы объектива CFI60-2 Числовая апертура Диапазон поправки на толщину стекла Рабочее расстояние (t = толщина стекла (мм))
L Plan Epi 20x CR 0.45 От 0 до 1,2 мм 10,9 мм при t=0
10,5 мм при t=0,6
10,0 мм при t=1,2
L Plan Epi 50x CR 0.7 От 0 до 1,2 мм 3,9 мм при t=0
3,4 мм при t=0,6
3,0 мм при t=1,2
L Plan Epi 100x CRA 0.85 От 0 до 0,7 мм 1,20 мм при t=0
1,05 мм при t=0.3
0,85 мм при t=0,7
L Plan Epi 100x CRB 0.85 От 0,6 до 1,3 мм 1,3 мм при t=0,6
1,15 мм при t=0,9
0,95 мм при t=1,3

Эффект от применения объективов для ЖК-панелей
При наблюдении через стекло с помощью специальных объективов с коррекцией на толщину стеклянной подложки можно получить чёткое изображение рисунка.


С объективом Plan EPI

С объективом для ЖК-панелей

Изображение по методу ДИК Номарского
Микроскопия по методу дифференциального-интерференционного контраста позволяет визуализировать незначительные перепады высоты в виде чётких, контрастных изображений.

Изображение в тёмном поле
Микроскопия методом тёмного поля эффективна при необходимости обнаружения мелких частиц и царапин на поверхности.

Области применения
Полупроводниковые пластины, LCD размером до 150 мм

Программное обеспечение NEXIV VMR AutoMeasure обновлено и имеет теперь новый графический интерфейс, благодаря которому можно из основного окна создавать или запускать обучающие файлы, регулировать освещение, проверять результаты или проводить калибровку.

С помощью различных утилит можно легко записать обучающий файл в короткий срок.

Новый интерфейс может быть настроен под задачи заказчика.

Новые функции для прецизионных автоматических измерений Выбор точки и границы раздела

Можно заранее установить правила определения кромки из числа вариантов и отфильтровать неверные, чтобы избежать неправильных точек и минимизировать ошибки.

Функция интеллектуального поиска

Можно сохранить изображения в обучающем файле, чтобы позволить системе искать их. С данной функцией смещенные образцы будут найдены и измерены без ошибок.
Система обнаружит детали с неверной ориентацией и повернет изображение до совпадения.

Автоматическая настройка интенсивности освещения

Можно выбрать из трех уровней интенсивности Низкий, Средний и Высокий для коаксиального, верхнего и нижнего света с помощью всего одной из трех кнопок.

Программа интерфейса CAD в режиме подключения к сети

Оператор может импортировать данные из САПР (CAD) для конкретной детали (в формате IGES, DXF, Gerber или Excellon) и отобразить её в окне графического представления данных CAD в программной оболочке NEXIV VMR AutoMeasure. Это повышает эффективность обучения и экономит рабочее время.

  • Оператор может переместить столик в требуемое положение двойным щелчком мыши в нужном месте на обследуемой детали.
  • Данная функция позволяет автоматически создать файл программы обучения на основании данных CAD в программной оболочке NEXIV VMR AutoMeasure.
Программа интерфейса CAD для обучения в автономном режиме

Программа NEXIV Virtual AutoMeasure позволяет считывать данные CAD в окно виртуального видеопространства на отдельном компьютере, предоставляя оператору возможность работы с программой обучения системы NEXIV с применением таких же рабочих процедур, как и на компьютере, подключённом к сети. Это избавляет от необходимости использовать реальную деталь при составлении обучающих программ и позволяет системе NEXIV сосредоточиться на автоматических измерениях для повышения производительности.

  • Поддерживает файлы форматов IGES, DXF, DMIS, NC, Gerber и Excellon.
  • Окно виртуального видеопространства позволяет оператору выбрать необходимое поле зрения на основании данных CAD.
  • Применяются такие же рабочие процедуры, как и в программе NEXIV AutoMeasure.
  • Программирование в ручном режиме или автоматически, одним щелчком мыши.
  • Возможно сочетание программ с использованием макроступеней, таких как измерение ширины линии и поиск по нескольким шаблонам.
Программа двумерного анализа формы профиля: NEXIV Profiler

Данная программа позволяет осуществлять измерение и анализ двумерных профилей детали, которые не могут быть измерены в режиме нормального геометрического измерения. Теперь, благодаря применению метода сравнения таблиц данных, возможно выполнение более точных количественных измерений с использованием профильных проекторов и/или традиционных измерительных микроскопов.

Оценка контуров
Номинальные и измеренные контуры можно наложить, и ошибки сразу станут заметны. Функция лучшего совпадения сдвигает и доворачивает измеренные контуры до номинальных для минимизации ошибок.

Редактирование импортированных данных CAD-файлов
Изменение допусков, направлений элементов, размера может быть сделано в программе NEXIV Profiler.

Расчет погрешностей может быть проведен в направлении нормали или в осевом направлении.
Номинальные контуры могут быть созданы либо из CAD-файлов, либо из значений координат XYZ.
Измеренные контуры могут быть выведены в CSV или DXF файле.
Отчет может быть выполнен в формате PDF файла.

NEXIV CAD Reader

Используя программный модуль NEXIV CAD Reader чертежи с номинальными размерами могут быть вызваны из файлов формата DXF/IGES.

NEXIV Report

Отчеты могут содержать результаты измерений и графики. Можно выбрать, какие результаты и графики нужно отобразить, и сменить слои. После того как отчет впервые создан, он может автоматически создаваться каждый раз при запуске программы.

Дополнительные программные продукты Программное обеспечение для анализа поверхности по ISO/ASME/JIS MountainsMap X (Digital Surf, Франция)

MountainsMap X – мощная программа для метрологического анализа поверхностей. Она обладает богатым функционалом 3D визуализации, поперечного вида, 2D и 3D шероховатостей и других параметров по стандарту ISO.

EDF/Stitching Express

Программное обеспечение может объединять изображения в XY плоскости, чтобы в итоге получить изображение большого поля зрения, а также изображения на разной высоте вдоль оси Z, чтобы получить изображение с расширенной глубиной фокуса (EDF). На основании этих данных может создать 3D графики.


Изображение EDF

3D график

«Сшитое» изображение с EDF

Поперечное сечение
Перемещение по XYZ Тип 1, 2, 3 и 4 300×300×150 мм
Тип Z120X с объективом высокого увеличения 300×300×150 мм
Тип Z120X с объективом малого увеличения 250×300×150 мм
Тип LU 1200×720×150 мм
Минимальный шаг считывания 0.01 мкм
Максимальные вес образца 30 кг
Точность (L: длина в мм) U1X, U1Y 0.6+2L/1000 мкм
U2XY 0.9+3L/1000 мкм
Точность по оси Z (с лазерным автофокусом) 0.9+L/150 мкм
Камера Черно-белая ПЗС 1/3”, цветная ПЗС 1/3” (опция)
Черно-белая ПЗС 1/3” с прогрессивным сканированием, цветная ПЗС 1/3” (опция)
Рабочее расстояние объектива Тип 1, 2 и 3 50 мм при угле освещения 37°,
10 мм при угле освещения 75°
Тип Z120X 9.8 мм для объектива большого увеличения и 32 мм для объектива малого увеличения
Увеличение и поле зрения Тип 1 0.5 ~ 7.5× / 9.33×7 ~ 0.622×0.467 мм
Тип 2 1 ~ 15× / 4.67×3.5 ~ 0.311×0.233 мм
Тип 3 2 ~ 30× / 2.33×1.75 ~ 0.155×0.117 мм
Тип Z120X 1 ~ 120× / 4.67×3.5 ~ 0.039×0.029 мм
Автофокус Тип 1, 2, 3 и Z120X оборудованы лазерной автофокусировкой через объектив и визуальной автофокусировкой.
Тип LU оборудован только визуальной автофокусировкой
Осветители Тип 1, 2 и 3 Светодиодный эпископический и диаскопический осветители 8-сегментный светодиодный кольцевой осветитель (внутренний кольцевой осветитель с углом освещения 37° и внешний кольцевой осветитель с углом освещения 75°)
Тип Z120X Светодиодный эпископический и темнопольный осветители для объективов большого и малого увеличения Светодиодный диаскопический осветитель только для объектива большого увеличения
Требования к питающей сети AC 100-240В±10% 50 или 60 Гц
Потребление по току 11A (стандарт), 13A (Z120X)
Размеры и вес Основной блок и стол 1000×1100×1900 ммо
коло 570 кг
Блок управления 250×550×500 мм/31 кг
Система, включая компьютер на столе 2400×1400 мм
Наверх